PECVD是什麼

等離子體增強化學的氣相沉積法。

實驗機理：藉助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

優點：基本温度低；沉積速率快；成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。

缺點：設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；對小孔孔徑內表面難以塗層；沉積之後產生的尾氣不易處理。