幹膜曝光能量多少格合適

幹膜曝光能量6-8格合適。幹膜是相對濕膜而言的，是一種高分子材料，它通過紫外線的照射後能夠產生一種聚合反應，形成一種穩定的物質附着於板面，從而達到阻擋電鍍和蝕刻的功能。幹膜是製作印刷電路板的重要耗材，廣泛應用於微電子行業和電路板製造行業。幹膜曝光一段時間後，經顯影，光致抗蝕層已全部或大部分聚合，並具有技術條件所要求的抗蝕性能，該時間稱為最短曝光時間或最小曝光量。將曝光時間繼續延長，使光致抗蝕劑聚合得更徹底，且能正常顯影，顯影后得到的圖文尺寸仍與照相底版尺寸相符，顯影后的抗蝕層滿足技術條件要求的抗蝕性能及附着性能，該時間稱為最大曝光時間或最大曝光量。